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<!DOCTYPE html>

<title>Extrem ultraviolette Strahlung</title>

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<h1 id="firstHeading" class="firstHeading mw-first-heading"><span class="mw-page-title-main">Extrem ultraviolette Strahlung</span></h1>

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.mw-parser-output .vl-mehrere-bilder{margin-top:.5em}.mw-parser-output .vl-mehrere-bilder-kopf{clear:both;font-weight:bold}.mw-parser-output .vl-mehrere-bilder-horizontal{float:left;padding:1px}@media screen{html.skin-theme-clientpref-night .mw-parser-output .vl-mehrere-bilder .thumbimage{background:none}html.skin-theme-clientpref-night .mw-parser-output .vl-mehrere-bilder .thumbimage:not([style*="background"]) span:not([class]) img{background-color:var(--background-color-base-fixed,#ffffff);color:var(--color-base-fixed,#202122);filter:brightness(0.8)}}@media screen and (prefers-color-scheme:dark){html.skin-theme-clientpref-os .mw-parser-output .vl-mehrere-bilder .thumbimage{background:none}html.skin-theme-clientpref-os .mw-parser-output .vl-mehrere-bilder .thumbimage:not([style*="background"]) span:not([class]) img{background-color:var(--background-color-base-fixed,#ffffff);color:var(--color-base-fixed,#202122);filter:brightness(0.8)}}

/* end https://de.wikipedia.org/ */

</style><div class="thumb tright vl-mehrere-bilder" style="width:506px;"><div class="thumbinner"><div class="vl-mehrere-bilder-horizontal" style="width:232px;"><div class="thumbimage"><span typeof="mw:File"></span></div><div class="thumbcaption"><a href="Falschfarbenbild" class="mw-redirect" title="Falschfarbenbild">Falschfarbenbilder</a> der Sonne im EUV: 17 <a href="Nanometer" class="mw-redirect" title="Nanometer">nm</a> (blau), 19 <a href="Nanometer" class="mw-redirect" title="Nanometer">nm</a> (grün), 29 nm (gelb) 30 nm (rot).</div></div><div class="vl-mehrere-bilder-horizontal" style="width:260px;"><div class="thumbimage"><span typeof="mw:File"></span></div><div class="thumbcaption">Kompositbild der Sonne im EUV (rot: 21,1 nm, grün: 19,3 nm, blau: 17,1 nm), aufgenommen vom <a href="Solar_Dynamics_Observatory" title="Solar Dynamics Observatory">Solar Dynamics Observatory</a> im Jahr 2010</div></div><div style="clear:both;"></div>

</div></div>

<p><b>Extrem ultraviolette Strahlung</b> (<b>EUV</b>, <b>EUV-Strahlung</b>, engl. <span lang="en"><i>extreme ultra violet</i></span>, <b>XUV</b>) bezeichnet den Spektralbereich <a href="Elektromagnetische_Strahlung" class="mw-redirect" title="Elektromagnetische Strahlung">elektromagnetischer Strahlung</a> zwischen 10 <a href="Nanometer" class="mw-redirect" title="Nanometer">nm</a> und 121 nm.<sup id="cite_ref-ISO21348_1-0" class="reference"><a href="#cite_note-ISO21348-1"><span class="cite-bracket">[</span>1<span class="cite-bracket">]</span></a></sup> Dies entspricht <a href="Photon" title="Photon">Photonen</a>-Energien zwischen etwa 10,25 eV und 124 eV. Damit bezeichnet EUV einen Wellenlängenbereich an der Grenze zur <a href="R%C3%B6ntgenstrahlung" title="Röntgenstrahlung">Röntgenstrahlung</a>, der sich mit der <a href="VUV-Strahlung" title="VUV-Strahlung">Vakuum-Ultraviolettstrahlung</a> (VUV, nach ISO21348 10–200 nm<sup id="cite_ref-ISO21348_1-1" class="reference"><a href="#cite_note-ISO21348-1"><span class="cite-bracket">[</span>1<span class="cite-bracket">]</span></a></sup>, nach DIN 5031 100–200 nm<sup id="cite_ref-2" class="reference"><a href="#cite_note-2"><span class="cite-bracket">[</span>2<span class="cite-bracket">]</span></a></sup>) überschneidet.

</p>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Gebräuchliche_Grenzen"><span id="Gebr.C3.A4uchliche_Grenzen"></span>Gebräuchliche Grenzen</h2></div>

<p>Neben den oben genannten Wellenlängengrenzen gibt es noch weitere:<sup id="cite_ref-ISO21348_1-2" class="reference"><a href="#cite_note-ISO21348-1"><span class="cite-bracket">[</span>1<span class="cite-bracket">]</span></a></sup>

</p>

<ol><li>die untere Grenzwellenlänge beträgt 30 nm</li>

<li>die obere Grenzwellenlänge entspricht

<ul><li>der Ersten Ionisationsenergie von <a href="Sauerstoff" title="Sauerstoff">Sauerstoff</a> (ca. 100 nm)</li>

<li>der Transmissionsgrenze von <a href="Magnesiumfluorid" title="Magnesiumfluorid">Magnesiumfluorid</a> (ca. 120 nm)</li>

<li>der Wellenlänge des <a href="Lyman-Serie" title="Lyman-Serie">Lyman-α-Übergangs</a> bei 121,6 nm</li></ul></li></ol>

<p>Die Abkürzung XUV wird ebenfalls mit der englischen Bezeichnung <span lang="en"><i>extreme ultra violet</i></span> in Zusammenhang gebracht. Laut ISO 21348<sup id="cite_ref-ISO21348_1-3" class="reference"><a href="#cite_note-ISO21348-1"><span class="cite-bracket">[</span>1<span class="cite-bracket">]</span></a></sup> bezeichnet XUV (0,1–10 nm) jedoch den Spektralbereich ultravioletter Strahlung, der sich mit weicher Röntgenstrahlung überschneidet.

</p>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Anwendung">Anwendung</h2></div>

<p>Die <a href="EUV-Lithografie" title="EUV-Lithografie">EUV-Lithografie</a> ersetzt in der <a href="Halbleitertechnik" title="Halbleitertechnik">Halbleitertechnik</a> derzeit die bisherige klassische <a href="Fotolithografie_(Halbleitertechnik)" title="Fotolithografie (Halbleitertechnik)">Fotolithografie</a> und ermöglicht die wirtschaftlichere Produktion aktueller mikroelektronischer Schaltungen sowie die Entwicklung von Schaltkreisen mit höheren Bauelementdichten. International haben sich die beteiligten <a href="F%26E" class="mw-redirect" title="F&E">F&E</a>-Abteilungen bzw. -Institute auf eine Zentralwellenlänge von 13,5 <a href="Nanometer" class="mw-redirect" title="Nanometer">nm</a> geeinigt. Für die Lithographie kann üblicherweise nur eine Bandbreite von ca. 2 % genutzt werden. Seit 2018 wird die EUV-Lithographie kommerziell in der <a href="Halbleiter" title="Halbleiter">Halbleiterindustrie</a> angewendet.<sup id="cite_ref-3" class="reference"><a href="#cite_note-3"><span class="cite-bracket">[</span>3<span class="cite-bracket">]</span></a></sup> An den Forschungsarbeiten hierzu ist auch eine Gruppe des <a href="NIST" class="mw-redirect" title="NIST">NIST</a> in den USA beteiligt.<sup id="cite_ref-4" class="reference"><a href="#cite_note-4"><span class="cite-bracket">[</span>4<span class="cite-bracket">]</span></a></sup>

</p><p>EUV-Strahlung bietet aufgrund der kurzen Wellenlänge und der starken Wechselwirkung mit Materie das Potential der Analyse und Strukturerzeugung mit Nanometer-Auflösung und typisch mehreren hundert Nanometern <a href="Eindringtiefe" title="Eindringtiefe">Eindringtiefe</a>.

</p>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Literatur">Literatur</h2></div>

<div class="sieheauch" role="navigation" style="font-style:italic;"><span class="sieheauch-text">Siehe auch</span>: <a href="Fotolithografie_(Halbleitertechnik)" title="Fotolithografie (Halbleitertechnik)">Fotolithografie (Halbleitertechnik)</a></div>

<div class="mw-heading mw-heading2"><h2 id="Einzelnachweise">Einzelnachweise</h2></div>

<li id="cite_note-ISO21348-1"><span class="mw-cite-backlink">↑ <sup><a href="#cite_ref-ISO21348_1-0">a</a></sup> <sup><a href="#cite_ref-ISO21348_1-1">b</a></sup> <sup><a href="#cite_ref-ISO21348_1-2">c</a></sup> <sup><a href="#cite_ref-ISO21348_1-3">d</a></sup></span> <span class="reference-text">ISO 21348 1. Mai 2007. <i>Space environment (natural and artificial) — Process for determining solar irradiances.</i></span>

</li>

<li id="cite_note-2"><span class="mw-cite-backlink"><a href="#cite_ref-2">↑</a></span> <span class="reference-text">DIN 5031 Teil 7, Januar 1984. <i>Strahlungsphysik im optischen Bereich und Lichttechnik. Benennung der Wellenlängenbereiche .</i></span>

</li>

<li id="cite_note-3"><span class="mw-cite-backlink"><a href="#cite_ref-3">↑</a></span> <span class="reference-text"><span class="cite">Nico Ernst: <a rel="nofollow" class="external text" href="https://www.heise.de/newsticker/meldung/Samsung-fertigt-7-Nanometer-Chips-mit-EUV-Belichtern-4195040.html"><i>Samsung fertigt 7-Nanometer-Chips mit EUV-Belichtern.</i></a> In: <i>heise online.</i> 18. Oktober 2018,<span class="Abrufdatum"> abgerufen am 11. Januar 2021</span>.</span><span style="display: none;" class="Z3988" title="ctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info%3Aofi%2Ffmt%3Akev%3Amtx%3Adc&rfr_id=info%3Asid%2Fde.wikipedia.org%3AExtrem+ultraviolette+Strahlung&rft.title=Samsung+fertigt+7-Nanometer-Chips+mit+EUV-Belichtern&rft.description=Samsung+fertigt+7-Nanometer-Chips+mit+EUV-Belichtern&rft.identifier=https%3A%2F%2Fwww.heise.de%2Fnewsticker%2Fmeldung%2FSamsung-fertigt-7-Nanometer-Chips-mit-EUV-Belichtern-4195040.html&rft.creator=Nico+Ernst&rft.date=2018-10-18"> </span></span>

</li>

<li id="cite_note-4"><span class="mw-cite-backlink"><a href="#cite_ref-4">↑</a></span> <span class="reference-text"><span class="cite">Charles Tarrio, Thomas Lucatorto: <a rel="nofollow" class="external text" href="https://www.nist.gov/blogs/taking-measure/how-extreme-ultraviolet-light-helps-give-us-smarter-smartphones-and-stronger"><i>How Extreme Ultraviolet Light Helps Give Us Smarter Smartphones and Stronger Satellites.</i></a> In: <i>NIST.</i> 13. April 2020,<span class="Abrufdatum"> abgerufen am 11. Januar 2021</span>.</span><span style="display: none;" class="Z3988" title="ctx_ver=Z39.88-2004&rft_val_fmt=info%3Aofi%2Ffmt%3Akev%3Amtx%3Adc&rfr_id=info%3Asid%2Fde.wikipedia.org%3AExtrem+ultraviolette+Strahlung&rft.title=How+Extreme+Ultraviolet+Light+Helps+Give+Us+Smarter+Smartphones+and+Stronger+Satellites&rft.description=How+Extreme+Ultraviolet+Light+Helps+Give+Us+Smarter+Smartphones+and+Stronger+Satellites&rft.identifier=https%3A%2F%2Fwww.nist.gov%2Fblogs%2Ftaking-measure%2Fhow-extreme-ultraviolet-light-helps-give-us-smarter-smartphones-and-stronger&rft.creator=Charles+Tarrio%2C+Thomas+Lucatorto&rft.date=2020-04-13"> </span></span>

</li>

</ol></div><div><div class="zim-footer">

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